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比較拋光過程中粗拋與精拋兩者的區別

閱讀數:12468 時間:2019-09-18 來源:星空体育平台官网下载 分享到:

大家肯定會(hui) 好奇為(wei) 什麽(me) 拋光機拋光要分粗拋和精拋?這是為(wei) 了一方麵得到大的拋光速率,以便盡快除去磨光時產(chan) 生的損傷(shang) 層。另一方麵也為(wei) 了使拋光損傷(shang) 層不會(hui) 影響終觀察到的組織,即不會(hui) 造成假組織。而能使兩(liang) 者兼備的方法就是把拋光分為(wei) 兩(liang) 個(ge) 階段進行,即粗拋與(yu) 精拋。

 比較拋光過程中粗拋與(yu) 精拋兩(liang) 者的區別

粗拋的目的是去除磨光損傷(shang) 層,這一階段應具有大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷(shang) 是次要的考慮,不過也應當盡可能小;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chan) 生的表層損傷(shang) ,使拋光損傷(shang) 減到小。拋光機拋光時,試樣磨麵與(yu) 拋光盤應相對對平行並均勻地輕壓在拋光盤上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chan) 生新磨痕。同時還應使試樣自轉並沿轉盤半徑方向來回移動,以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(hui) 減弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chan) 生“曳尾”現象;濕度太小時,由於(yu) 摩擦生熱會(hui) 使試樣升溫,潤滑作用減小,磨麵失去光澤,甚至出現黑斑,輕合金則會(hui) 拋傷(shang) 表麵。

 比較拋光過程中粗拋與(yu) 精拋兩(liang) 者的區別


為(wei) 了達到粗拋的目的,要求轉盤轉速較低,好不要超過600r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些,因為(wei) 還要去掉變形層。粗拋後磨麵光滑,但黯淡無光,在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕,有待精拋消除。精拋時轉盤速度可適當提高,拋光時間以拋掉粗拋的損傷(shang) 層為(wei) 宜。精拋後磨麵明亮如鏡,在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。

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