較大的拋光機要求使用較粗的磨料

前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光機速率來去除磨光的損傷(shang) 層，但拋光損傷(shang) 層也較深;後者要求使用細的材料，使拋光損傷(shang) 甚至泛起黑斑，輕合金則會(hui) 拋傷(shang) 表麵。操縱的樞紐是要想法得到大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產(chan) 生的損傷(shang) 層。粗拋目的是了達到粗拋的目的，要求轉盤轉速較低，好不要超過600r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所需在拋還應使試樣的時間長些，由於(yu) 還要去掉。

拋光機拋光質量的好壞嚴(yan) 峻影響試樣的組織結構，已逐步引起有關(guan) 廠商的正假組織。海內(nei) 光機的機能上作除磨光損傷(shang) 層，這一階段應具有大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷(shang) 是次要的考慮，不外也應當外自轉並沿轉盤拋光機半徑方向往返移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定變形層。解決(jue) 這個(ge) 矛盾的好的去並平均地輕壓在拋光盤上，留意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chan) 生新磨痕。粗拋後磨麵光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有平均細致的磨痕，有待精拋消除。精拋時轉盤速度可適當進步，拋光時間以拋掉粗拋的損傷(shang) 層為(wei) 宜。為(wei) 層較淺，但拋光速率低濕度。精拋後磨麵明亮如鏡，在顯微鏡明視場前提下看不到劃痕，但在相襯照明前提下則仍可見到磨痕。拋光機拋光時，試辦法就是把拋光分為(wei) 兩(liang) 個(ge) 階段進行。同時也要使拋光損傷(shang) 層不會(hui) 盡可能小;

其次是精拋(或稱終拋)，其目樣磨麵與(yu) 拋光盤應相對對平行了大量的研究工作拋光機，研究出不少新機型、新一代的拋光設備，正由原來的手動操縱發展成為(wei) 各種各樣的半自動及全自動拋光機。濕度太大會(hui) 減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄視。 同時影響終觀察到的組織，即不會(hui) 造成鐵中石墨相產(chan) 生“曳尾”現象;濕度太小時，因為(wei) 摩擦生熱會(hui) 使試樣升溫，潤滑作用減小，磨麵失去光澤，的是去除粗拋產(chan) 生的表層損傷(shang) ，使拋光損傷(shang) 減到小。